Gwactod ffilm tenau magnetron sputtering cotio peiriant
Mae gan cotio sputtering Magnetron y manteision canlynol
- (1) Gellir rheoli trwch y cotio, yn unol ag anghenion ffilm platio pobl, a gellir ailadrodd y cotio, ond hefyd i dorri terfyn y celf flaenorol, i gael trwch ffilm unffurf ar wyneb mawr;
- (2) Ffilm a gafwyd gan y dechneg hon gydag adlyniad cryf;
- (3) Gall y dechneg hon yn cael ei baratoi deunydd ffilm arbennig, yn ôl eu hanghenion tra sputtering ffilm hybrid, ffilm cyfansawdd;
- (4) ffilm purdeb uchel.
- Deunyddiau sy'n berthnasol: plastig, metel a gwydr
- Mathau o haenau ffilm: titaniwm, alwminiwm, arian, cromiwm, titaniwm, dur di-staen a metelau eraill neu haenau aloi
- Maint offer: Yn ôl gofynion y cwsmer, gallwch ddylunio siambr sengl, un drws, drws dwbl siambr sengl, offer siambr ddeuol
- System reoli: system reoli PLC (awtomatig, llaw yn ddewisol)
- Pŵer: Cyflenwad pŵer DC neu gyflenwad pŵer amledd canolradd
- Lliw offer: ar gael ar gyfer addasu cwsmeriaid
- Cylchred gorchuddio: cotio swp am 10-15 munud
- Gweithredwr: 2-3 o bobl
- Bob awr o ddefnydd pŵer: tua 40kW
- Deunyddiau cynhyrchu: dur carbon neu ddur di-staen
- Peirianneg ategol: aer cywasgedig, dŵr oeri
- Ardal feddiannu: yn unol â gofynion addasu cwsmeriaid
- Gallwn hefyd ddefnyddio'r broses sputtering i gynyddu nodweddion, dwysedd, ac unffurfiaeth yr haen bilen.Yn addas ar gyfer cynhyrchion gwydr grisial, mae gan grefftau, cynhyrchion plastig, cynhyrchion electronig a diwydiannau eraill ragolygon datblygu da.Os oes angen llinellau cynhyrchu cotio sputtering magnetig, mae croeso i chi ymholi.
Ysgrifennwch eich neges yma a'i hanfon atom
